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 デバイス観察/フォトマスクリペア

全4製品 

SIR5000 SIR5000
フォトマスクリペア装置
半導体デバイス用フォトマスクやレチクル上の欠陥をFIBによって修正する装置で、バイナリー及びハーフトーンマスクなどフォトマスク上の微小な欠陥や複雑な形状の欠陥を、高精度かつ低ダメージで修正する事が可能です。
SIR5000 マスクリペア装置

SPI4000 SIR7000FIB
フォトマスクリペア装置
半導体デバイス用フォトマスクやレチクル上の欠陥をFIBによって修正する、65nmノード対応の次世代装置で、バイナリー及びハーフトーンマスクなどフォトマスク上の微小な欠陥や複雑な形状の欠陥を、高精度かつ低ダメージで修正する事が可能です。
マスクリペア装置 SIR7000FIB

SPI4000 SPR6300

SPM型フォトマスクリペア装置

走査型プローブ顕微鏡の技術をフォトマスク欠陥修正に応用し、フォトマスク上の黒欠陥を、ダイヤモンド探針を用いて修正する装置です。これまで集束イオンビーム(FIB)やレーザーを用いた修正技術では難しいとされていた微小な異物の除去や孤立欠陥の修正を可能にしました。
SPM型マスク欠陥修正(マスクリペア)装置 SPR6300

SPI4000 SIR8000
液晶用フォトマスクリペア装置
液晶フォトマスク修正に半導体用フォトマスク欠陥修正装置に用いられるFIB修正技術を導入し、白欠陥、黒欠陥の両欠陥に対する高い修正精度を実現しています。FIBを用いたリペア装置としては初めて、第7世代以降のFPD大型フォトマスクへの対応しています。
液晶用マスク欠陥修正(マスクリペア)装置 SIR8000

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