半導体製造支援ソフトウェア
マスクルールチェッカー SmartMRC
品名
マスクルールチェッカー
型式
SmartMRC
概要
マスクルールチェック専用ツールとしてマスク描画データに対してマスク製造の事前チェックを行うことにより、マスク製造欠陥、マスク検査擬似欠陥を抑制しマスクコスト増大抑制、納期短期化を支援し、マスク歩留まり向上に貢献します
特長
•マスク描画データの直接読み込み
-描画データをGDSフォーマットに変換することなく直接読み込み可能
-パターンデータだけでなくJOBDECKをチェック可能
-異なる描画データ間の比較チェックが可能
•EDA/DRCツールでは非効率なマスク -描画パターンの高速チェック
-フラットパターンの高速チェック
-リバースパターンチェックがフォアグラウンドパターンと同等速度
•結果の圧縮出力
-チェック結果を圧縮OASISフォーマットで出力可能
• 高速・省メモリ処理
- ネットワーク分散処理(数10台規模でリニアな並列効率)
-データ規模によらず１CPUあたり10MB程度の消費メモリ
仕様
•データ変換後のデータ比較チェック
データ変換前後データ内容の比較チェック
データ変換確認、パターンあるいは一部データ差し替え時の確認
描画データ−描画データ比較(JOBDECK、パターン)、GDS−描画パターンデータ比較
マスクデータ間の各種ブーリアン演算（AND/OR/XOR/SUB）
•マスク描画・検査限界チェック
描画品質確保不可能パターンの検出
検査マスキングエリアの抽出
•CDポイント抽出
パターン均一性確認のためのSEM用測長ポイント抽出
マスク発注・受注／納品・受け入れの効率化
