| Fig. 1 The external in-plane rotating magnetic field induced domain wall motion in Permalloy rectanglular thin film. |
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Fig. 2 The equipment which can apply the external in-plane rotating magnetic field (One of options of environmental control SPM unit "E-sweep") |
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タイトル動画は面内で回転可能な磁場を印加しながらパーマロイの還流磁区の変化を磁気力顕微鏡（MFM)により観察した結果を動画表現したものです。
Fig.1に20エルステッドの磁場を面内で45°づつ向きを変えていった際の磁区変化を示します。印加した外部磁場の向きと平行な還流磁区の成分が成長している様子が明瞭に観察されています。
Fig.2にこのような実験が可能な装置の概要を示します。SIIナノテクでは、環境制御ユニットE-sweepをベースに、水平磁場印加用の対向コイルを直交する2軸に配置し、それぞれの磁極間に印加した水平磁場の合成により、試料面内の任意の方向に外部磁場を印加できるような面内回転磁場印加オプションを開発しました。この面内回転型磁場印加SPMでは、ホール素子による磁束密度検出-フィードバック機構による電磁石を用いており、安定した強磁場を長時間保持することが可能となっています。磁極間距離は20mmで、最大4500エルステッドの磁場を任意の方向に発生させることが可能です。1）
最近では、外部磁場をスウィープする手法も開発され、磁化反転や磁壁の運動に起因するナノ領域のダイナミックな磁化特性をグラフ描画することも可能になりました。新たなナノ磁性体やスピントロニクス研究ツールとして注目されています。2） |
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| 引用等： |
| (1) |
山岡武博, 蓮村聡, 安藤和徳, 田村政史：”外部磁場印加オプションを装備した走査型プローブ顕微鏡によるストレージ，メモリ・デバイス分野への応用“，SIIナノテク，走査型プローブ顕微鏡セミナーテキスト (2007) 185. |
| (2) |
Y. Endo, H. Fujimoto, Y. Kawamura, R. Nakatani and M. Yamamoto, “Nanosized magnetization measurement of an isolated Co-Fe circular dot using a MFM tip”, J. Magn. Magn. Mater. 310 (2007) 2436. |
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