| 特長 |
1. 高速マッピング測定
大幅に向上した微小部蛍光X線分析の感度と高速電動ステージによる連続駆動の組み合わせにより、高速に二次元元素マッピング像を取得できます。特に基板中の鉛のマッピングへの対応を強化し、鉛マッピング専用フィルタを搭載しました。1,000ppmを下回る鉛フリーはんだ中の鉛のマッピングも可能です。
2. 広域に渡る高解像度な光学系
250mm x 200mmの全域にわたって20μm以下と高解像な光学像の取得が可能です。この光学像からダイレクトに精度良く測定位置指定を行うことが可能になり、操作性を飛躍的に向上させました。また、この光学像を高速マッピングで得られたマッピング像と重ねあわせることで、広い範囲にわたって高精度な解析が可能です。
3. 微小部の微量金属を高速測定
高密度な微小X線ビームの実現と高計数率検出器の搭載、さらに蛍光X線の検出効率を徹底的に考慮した設計により、高感度化を実現しました。微小部の微量金属や薄膜を短時間で測定します。1mm x 1mmほどの微小領域でも100秒程度の速さで有害物質を測定します。
4. 液化窒素不要の高計数率検出器
SIIナノテク独自の液化窒素不要の高計数率検出器 Vortex が標準装備され、面倒な液体窒素の補給は不要です。立ち上がり時間も数分と短く、電子冷却タイプのため信頼性に優れています。液化窒素の製造・運搬時に発生していた二酸化炭素の排出量削減への貢献、測定スピードの効率化による消費電力を削減など、環境にも配慮した装置です。
5. 連続測定
取得した広域試料観察画面からステージ上のサンプルについて最大500点の位置登録ができ、異なる測定条件の試料の連続測定が可能です。
6. 微小部膜厚測定
0.2mm x 0.2mmの面積のAu/Ni/Cu（金/ニッケル/銅）など薄膜多層めっきの膜厚が10秒程度で高精度に測定できます。また鉛フリーはんだめっきや無電解ニッケルめっきに含まれる微量の鉛の分析も可能です。
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